25,840.88
-270.96
(-1.04%)
25,696
-244
(-0.94%)
低水145
8,717.55
-88.05
(-1.00%)
4,854.67
-55.35
(-1.13%)
1,071.61億
4,107.53
+0.02
(+0.000%)
4,805.01
-5.34
(-0.111%)
15,084.91
-36.01
(-0.238%)
2,799.84
-4.10
(-0.15%)
75,586.0300
-193.9700
(-0.256%)
LG Display Co Ltd
  • 4.120
  • -0.100
  • (-2.370%)
  • 最高
  • 4.230
  • 最低
  • 4.105
  • 成交股數
  • 1.19百萬
  • 成交金額
  • 2.65百萬
  • 前收市
  • 4.220
  • 開市
  • 4.220
  • 盤後
  • 4.130
  • 0.010
  • (+0.243%)
  • 最高
  • 4.190
  • 最低
  • 4.090
  • 成交股數
  • 22.95萬
  • 成交金額
  • 53.11萬
  • 買入
  • 3.750
  • 賣出
  • 4.240
  • 市值
  • 42.20億
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 5086
  • 每宗成交金額
  • 521
  • 波幅
  • 23.559%
  • 交易所
  • NYSE
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 27.41/4.97
  • 周息率/預期
  • 6.23%/--
  • 10日股價變動
  • -18.898%
  • 風險率
  • 0.642
  • 振幅率
  • 2.135%
  • 啤打系數
  • 0.945

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 29/04/2026 19:59:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

23/04/2026 22:42

美股動向 | 台積電2029年前拒用ASML頂級光刻機

  《經濟通通訊社23日專訊》台積電(US.TSM)副共同營運長兼全球業務資深副總裁張曉強於2026年北美技術論壇上向媒體表示,台積電目前沒有計劃將荷蘭半導體設備巨頭ASML(US.ASML)最新一代高數值孔徑極紫外光光刻機投入晶片量產,相關決定至少維持至2029年以後。張曉強形容該設備「非常、非常昂貴」,單台定價逾3.5億歐元(約4.1億美元),是現行設備中造價最為高昂的半導體製造裝備。

 

  台積電雖已採購少量High-NA EUV設備,但目前僅作研發用途,並無任何量產部署安排。張曉強同時宣布,台積電最先進的A13制程晶片將於2029年正式投產,並強調在不動用High-NA EUV的情況下,現有低NA EUV設備仍可充分延伸技術壽命,進一步壓縮電晶體體積,達成性能躍升目標。台積電為阿斯麥最大單一客戶,此番明確表態無疑為其商業化路線圖增添了不確定性。(kk)

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